PhotoChimie Moléculaire et PhotoPolymérisation

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Développement de résines photosensibles pour des applications spécifiques 

J.M. Becht, C. Dietlin, J. Lalevée*, F. Morlet-Savary, M. Schmitt
*Contact : jacques.lalevee@uha.fr

Le développement de nouvelles résines photosensibles pour les polymérisations radicalaires, cationiques ou la préparation de réseaux polymères interpénétrés (RPI/IPN) nécessite une recherche fondamentale forte aussi bien au niveau des systèmes photoamorceurs (utilisation de conditions d’irradiation douces…) que de l’ensemble des composants de la résine photopolymérisable (nouveaux monomères/oligomères, polymérisation hybride, stabilisants, charges …). C’est en effet par une optimisation complète du système photopolymérisable que l’on peut améliorer les propriétés finales d’usage pour des applications spécifiques e.g. matériaux dentaires, encres, peintures, colles chirurgicales, revêtements fonctionnels, matériaux pour la construction, 3D printing… Dans ce domaine, et grâce à de nombreuses coopérations avec des partenaires industriels, le groupe est familiarisé avec les matériaux composites à base de ZnO, de zéolithes et de graphène, par exemple, mais aussi avec des techniques spéciales telles que l’impression filamentaire, la polymérisation frontale et les résines et textiles remplis de fibres. La compréhension des mécanismes réactionnels est aussi un facteur important dans le développement de ces systèmes photosensibles. Des systèmes biosourcés ou dégradables/recyclables sont aussi développés.