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Photophysique Moléculaire.
Absorption à Deux Photons et Confinement Spatial Appliqué à la Stéréolithographie.

Photophysique Moléculaire.
Absorption à Deux Photons et Confinement Spatial Appliqué à la Stéréolithographie.

Jean-Pierre Malval

Cette thématique concerne l’étude des processus primaires photoinduits et ses applications aux photomatériaux micro / nanostructurés. Plus spécifiquement, ces recherches abordent des problématiques associées à la photopolymérisation induite par absorption à deux photons (2PA) et à ses corollaires dans le confinement spatial photoinduit. En effet, le contrôle et la modulation de ce confinement permettent d’encoder une fonctionnalité nouvelle aux photomatériaux. Ces stratégies ouvrent un champ d’application très varié pour l’élaboration de matériaux micro/nanostructurés fonctionnels de type commutateurs1, cristaux liquides2, bactéricides3, à diffusion topo-regulée4, électrochimiluminescents5 etc…

Publications

1. Abdallah, S.,Mhanna, R.,Cabrera-Gonzalez, J.,Nunez, R.,Khitous, A.,Morlet-Savary, F.,Soppera, O.,Versace, D.-L.,Malval, J.-P. Chem. Mater. 2023, 35, 6979-6989

2. P. Nicolas, C. Minon, S. Abdallah, D. Chen, G. Rizzi, Y. de Coene, W. Liu, O. Jeannin, T. Verbiest, K. Clays, N. Bellec, B. Bilgin-Eran, H. Akdas-Kiliç, J.-P. Malval, S. Van Cleuvenbergen, F. Camerel, Adv. Optical Mater. 2024, 2402083.

3. D.-L. Versace, G. Moran, M. Belqat, A. Spangenberg, R. Meallet-Renault, S. Abbad-Andaloussi, V. Brezova and J.-P. Malval, ACS Applied Mater. Interf., 2020, 12, 5050-5057.

4. Mhanna, R.,Zhou, R.,Jin, M.,Pan, H.,Wan, D.,Versace, D.-L.,Hobeika, N.,Khitous, A.,Soppera, O.,Lamielle, P.,Malval, J.-P. J. Mater. Chem. C 2022, 10, 11983-11994.

5. Mhanna, R.,Durand, N.,Savel, P.,Akdas-Kiliç, H.,Abdallah, S.,Versace, D.-L.,Soppera, O.,Fillaut, J.-L.,Sojic, N.,Malval, J.-P. Chem Comm. 2022, 58, 9678-9681.